This site uses cookies.
Some of these cookies are essential to the operation of the site,
while others help to improve your experience by providing insights into how the site is being used.
For more information, please see the ProZ.com privacy policy.
Freelance translator and/or interpreter, Verified site user
Data security
This person has a SecurePRO™ card. Because this person is not a ProZ.com Plus subscriber, to view his or her SecurePRO™ card you must be a ProZ.com Business member or Plus subscriber.
Affiliations
This person is not affiliated with any business or Blue Board record at ProZ.com.
German to English - Rates: 0.13 - 0.16 EUR per word / 20 - 25 EUR per hour
Project History
0 projects entered
Payment methods accepted
PayPal
Portfolio
Sample translations submitted: 1
German to English: Dünnschicht-Zelltechnologie
Source text - German ... eine Idee besser
Dünnschicht-Zelltechnologie
Seit den 90er Jahren werden verstärkt Dünnschichtverfahren zur Herstellung von Solarzellen entwickelt. Hierbei werden photoaktive Halbleiter als dünne Schichten auf ein kostengünstiges Trägermaterial (in den meisten Fällen Glas) aufgebracht. Als Verfahren werden z. B. Aufdampf-Verfahren, Sputter-Verfahren (Kathodenzerstäubung) oder elektrolytische Bäder angewendet. Als Halbleitermaterial wird amorphes Silizium, KupferIndiumDiselenid (CIS) und CadmiumTellurid (CdTe) eingesetzt. Aufgrund der hohen Lichtabsorption dieser Materialien sind Schichtdicken kleiner als 0,001 mm für die Umwandlung des Sonnenlichts theoretisch ausreichend. Die Materialien sind toleranter gegenüber Verunreinigungen mit Fremdatomen. Im Vergleich zur Herstellungstemperatur von bis zu 1.500 °C für kristalline Siliziumzellen werden hier lediglich Abscheidungstemperaturen zwischen 200 °C und 600 °C benötigt. Der geringere Material- und Energieverbrauch und die Möglichkeit des hohen Automatisierungsgrades der Fertigung mit großem Durchsatz bieten beträchtliche Einsparpotenziale gegenüber der kristallinen Siliziumtechnologie.
Translation - English …one idea ahead
Thin-film cell technology
Since the 1990’s thin-film techniques for the production of solar cells have been being developed at an increasing rate. Photoactive semiconductors are deposited in thin layers onto an inexpensive substrate (in most cases glass). Such techniques as vapor deposition, sputter (cathode atomization) and electroplating are used. The semiconductors used are amorphous silicon, copper indium selenide (CIS) and cadmium telluride. Theoretically, due to the strong light absorption of these materials, layers no thicker than 0.001 mm are needed for the conversion of sunlight. The materials are more tolerant towards contamination by foreign atoms. In comparison to the temperatures of up to 1,500°C required for the production of crystalline silicon cells, deposition temperatures of only 200 °C to 600 °C are needed for the production of thin-film solar cells. Reduced material and energy consumption and the possibility of largely automated manufacturing with a high level of efficiency offer significant potential for economization compared to crystalline silicon technology.
More
Less
Experience
Years of experience: 16. Registered at ProZ.com: Jul 2012.
Freelance translation and localization - German to English.
Fields of expertise: renewable energy (photovoltaics), energy technology, medicine, IT, business, corporate relations, public relations, human resources, linguistics, history, fashion.
Document types: marketing, internet texts and websites, press releases, trade articles, company reports, technical texts, internal corporate communication
Expertise 